Qnity Electronics a installé un système d'inspection des défauts des circuits semi-conducteurs ne comportant pas de motifs SP7XP de KLA dans son centre de fabrication et de technologie de New England, à Marlborough, dans le Massachusetts, a annoncé jeudi la société.
Le système permettra à Qnity de développer et de fabriquer des matériaux de lithographie, notamment la famille de photorésistants Epic pour la lithographie ArF et la famille de photorésistants Eon pour la lithographie à l'ultra-violet extrême (EUV), ainsi que des matériaux de sous-couche. Cet équipement élargit les capacités de caractérisation et de contrôle des procédés de Qnity, ce qui permet d'identifier plus tôt les sources de variations pendant le développement et l'intégration des matériaux.
Cette amélioration vise à améliorer la qualification, la surveillance et la caractérisation des défauts des processus de fabrication des semi-conducteurs, selon la société. Cet investissement s’inscrit dans la stratégie plus large de Qnity visant à renforcer l’innovation dans le secteur des semi-conducteurs dans l’ensemble de son réseau mondial, fournissant des solutions technologiques pour la fabrication de puces et les systèmes électroniques.
Julia Woertink, vice-présidente de la technologie pour les technologies semi-conductrices chez Qnity, a déclaré que cette mise à niveau permettra aux clients d'adopter des processus semi-conducteurs plus avancés avec plus de confiance et plus rapidement. James Seale, directeur général de KLA, a souligné que l'installation reflète un intérêt croissant de l'industrie pour la caractérisation et le contrôle des processus dans toute la chaîne de valeur des semi-conducteurs.
Qnity Electronics est cotée sous le symbole Q à la bourse de New York.
