Qnity Electronics hat ein Surfscan SP7XP-System für die Inspektion von unstrukturierten Wafer mit Defekten von KLA im New England Manufacturing & Technology Center in Marlborough, Massachusetts, installiert, wie das Unternehmen am Donnerstag mitteilte.
Das System wird die Entwicklung und Herstellung von Lithografie-Materialien von Qnity unterstützen, heruntergeholt: die Epic-Fotoresist-Familie für ArF-Lithographie und die Eon-Fotoresist-Familie für die Extreme Ultraviolet (EUV)-Lithographie sowie Unterlags-Materialien. Die Ausrüstung erweitert die Charakterisierungs- und Prozesssteuerungsmöglichkeiten von Qnity und ermöglicht eine frühzeitige Identifizierung von Variantenquellen während der Entwicklung und Integration von Materialien.
Diese Erweiterung soll laut dem Unternehmen die Prozessqualifizierung, Überwachung und Fehlerkennzeichnung für die Herstellung von Halbleitern verbessern. Die Investition steht im Einklang mit der umfassenderen Strategie von Qnity, die Halbleiterinnovation in ihrem weltweiten Netzwerk zu stärken und Technologielösungen für die Herstellung von Chips und elektronischen Systemen bereitzustellen.
Julia Woertink, Vice President of Technology für Halbleitertechnologien bei Qnity, sagte, dass die Modernisierung den Kunden helfen wird, mit größerer Zuversicht und Geschwindigkeit in fortschrittlichere Halbleiterknollen voranzukommen. James Seale, General Manager von KLA, bemerkte, dass die Installation die wachsende Branchenbetonung auf Charakterisierung und Prozesskontrolle entlang der Halbleiter-Wertschöpfungskette widerspiegelt.
Qnity Electronics handelt unter dem Börsenkürzel Q an der New York Stock Exchange.
